濟寧金屬表面鍍鈦加工-金常來(lái)鍍鈦
商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)加工
地址：河南省商丘市示范區中州辦事處105國道與310國道交叉口北1公里路東東廠(chǎng)房3號門(mén)
主營(yíng)：金屬制品加工銷(xiāo)售
業(yè)務(wù)熱線(xiàn)：1593-9088815
QQ：1304173334
產(chǎn)品詳情 聯(lián)系方式
產(chǎn)品品牌：金常來(lái)
供貨總量：不限
價(jià)格說(shuō)明：議定
包裝說(shuō)明：不限
物流說(shuō)明：貨運及物流
交貨說(shuō)明：按訂單
有效期至：長(cháng)期有效
電弧蒸發(fā)鍍膜
在高真空下通過(guò)兩導電材料制成的電極之間產(chǎn)生電弧放電，利用電弧高溫使電極材料蒸發(fā)。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。
優(yōu)點(diǎn)薄膜純度高造價(jià)低適用于具有一定導電性的難熔金屬、石墨等
缺點(diǎn)
會(huì )飛濺出微米級的靶材料顆粒，影響薄膜質(zhì)量
利用高頻電磁場(chǎng)感應加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術(shù)。
帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡(jiǎn)單作用過(guò)程。
PVD技術(shù)四個(gè)工藝步驟
(1)清洗工件：接通直流電源，氣進(jìn)行輝光放電為離子，離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；
(2)鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。
基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.
b、壓強的大小. 為了保證膜層質(zhì)量,壓強應盡可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cháng)(cm)。
c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí),沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結構疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結構均勻致密,機械強度高,膜層內應力大.
d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí),則沒(méi)有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.
高經(jīng)理先生
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